电子装备——等离子刻蚀机

来源:     作者:系统管理员     发布时间:2009年07月15日     浏览次数:         

  用途:

  用于单晶硅太阳电池、多晶硅太阳电池及微晶硅太阳电池制造工艺中,对硅片周边扩散生成的掺杂硅膜层、化学气相淀积生成的氮化硅膜层进行周边刻蚀。